| Разработчики: | Технотех, Йошкар-Ола |
| Дата премьеры системы: | 2025/09/08 |
| Отрасли: | Электротехника и микроэлектроника |
2025: Изобретение раствора для производства печатных плат
Йошкар-олинский производитель печатных плат «Технотех» получил первый патент на раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления. Состав является критически важным элементом в процессе производства печатных плат. Об этом компания сообщила 8 сентября 2025 года.
Автором изобретения выступил руководитель Центра научных разработок предприятия Андрей Алкаев. По его словам, работа над созданием отечественного аналога была инициирована в 2022 году после санкций, которые полностью заблокировали поставки спецхимии из Европы и США.
Именно состав для удаления фоторезиста закончился на предприятии первым.
| | Времени и вариантов не было, нужно было действовать – здесь и сейчас», – вспоминает представитель «Технотеха». | |
Так, сотрудники Центра не только создали аналог раствора, но и провели необходимые опыты, сразу внедрив его в рабочие процессы.
На вопрос о наличии альтернатив разработке собственного решения Андрей Алкаев ответил:
| | Да, мы могли откатиться назад и заменить раствор устаревшим процессом на основе минеральной щелочи. Однако риски производить брак были велики, так как такой состав травит олово, сильно окисляет медь и неприменим для комбинированного метода изготовления печатных плат. Массовый брак был бы неизбежен. | |
От идеи до реализации прошло около двух недель. В ходе испытаний раствор показал стабильно высокий результат, а выявляемые недостатки оперативно устранялись. После внедрения собственной разработки на предприятии собрали пакет документов для ее вывода на рынок: технические условия, паспорт безопасности, независимые испытания.
Ключевыми плюсом нового состава являются высокая скорость удаления фоторезиста, щадящее взаимодействие с материалами подложки (оловом и медью), увеличенный срок службы и ряд других улучшенных технологических показателей. Немаловажен и значительный экономический эффект: стоимость изготовления раствора собственного производства в разы ниже импортных аналогов, включая китайские.







