Содержание |
История
2026: Разработка лазерно-плазменного рентгеновского литографа для производства микроэлектроники
В феврале 2026 года в Институте физики микроструктур РАН (филиал ИПФ РАН им. А. В. Гапонова-Грехова) был представлен экспериментальный стенд, являющийся прототипом лазерно-плазменного источника для промышленного рентгеновского литографа нового поколения. Установка работает на длине волны 11,2 нм и предназначена для отработки ключевых технологических решений.
Как пишет издание «Научная Россия», созданный стенд включает в себя основные компоненты будущего источника: сверхзвуковое сопло с системой подачи и откачки ксенона, твердотельный лазер, оснащенный системой фокусировки, а также коллектор рентгеновского излучения. Для исследования параметров установка оснащена диагностическим оборудованием.
В ходе испытаний были получены значимые результаты. Исследователям удалось реализовать разряд с излучающей областью размером 150х400 мкм. Коэффициент конверсии лазерного излучения в рентгеновское достиг около 3%, что является достаточным показателем для практического применения в промышленном оборудовании.Вебинар: «Управление качеством в фарме: от зарубежных решений и бумаги — к российской системе Docs5 EQMS»
Эксперименты подтвердили преимущество использования ксенона в качестве рабочего тела. В отличие от оловянных мишеней, применяемых в литографах ASML, ксеноновый источник не генерирует поток высокоэнергетичных ионов, способных разрушать коллектор. Кроме того, впервые была доказана высокая эффективность конверсии при работе с непрерывной ксеноновой струей, что открывает перспективы для использования мультикиловаттного лазера.
Для данной демонстрационной установки в ИПФ РАН разрабатывается специализированный твердотельный лазер с диодной накачкой на основе кристаллов Yb:YAG. Он придет на смену коммерческому маломощному лазеру и позволит провести ресурсные испытания: оценить срок службы сопла, степень загрязнения и деградации коллектора, а также смоделировать параметры, необходимые для полноценного промышленного литографа.[1]









