| Разработчики: | Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) |
| Дата премьеры системы: | декабрь 2023 г. |
| Отрасли: | Электротехника и микроэлектроника |
2023: Анонс продукта
В конце декабря 2023 года китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE), разрабатывающая оборудование для производства чипов, представила свой первый литографический сканер для техпроцесса с нормами 28 нм — систему SSA/800-10W. Это достижение представляет собой прорыв в стремлении КНР сократить технологический разрыв с зарубежными компаниями, что важно в условиях жестких санкций со стороны США.
Тайваньский контрактный производитель TSMC изготавливает чипы по 28-нм техпроцессу с 2011 года, тогда как китайская SMIC внедрила аналогичную технологию в 2015-м. Однако и SMIC, и TSMC использовали для этих целей литографические инструменты нидерландской фирмы ASML. Для SMEE создание сканера SSA/800-10W имеет огромное значение, поскольку ранее доступные установки серии SSA600 поддерживают технологические процессы только с нормами 90, 110 и 280 нм.
Экспортные ограничения, установленные властями США, не позволяют китайским производителям микросхем приобретать оборудование и технологии, необходимые для изготовления микросхем с использованием норм менее 14/16 нм, чипов памяти 3D NAND со 128 и более слоями, а также оперативной памяти DRAM на основе 18 нм и ниже.
Дополнительные ограничения в отношении Китая со стороны Нидерландов, Японии и Тайваня еще больше усложнили ситуацию. Министерство торговли США включило SMEE в список организаций, подлежащих контролю: тем самым американские власти пытаются помешать Китаю развивать свою полупроводниковую промышленность с помощью собственных инструментов. На этом фоне правительство КНР активно стимулирует расширение полупроводниковых производств в стране, а также разработку процессоров и специализированных ускорителей, в том числе для приложений искусственного интеллекта.[1]
