Разработчики: | Росатом, Российская академия наук (РАН) |
Дата премьеры системы: | 2023/01/30 |
Отрасли: | Электротехника и микроэлектроника |
Основные статьи:
2023: План разработки фотолитографа для производства микроэлектроники
Росатом и российская академия наук разработают мощный фотолитограф для производства микроэлектроники. Об этом рассказал научный руководитель национального центра физики и математики (НЦФМ, г. Саров, Нижегородская область), академик РАН Александр Сергеев в интервью журналу "Эксперт". По его словам, в проекте планируют участвовать несколько крупнейших учреждений Росатома и академических институтов. Об этом стало известно 30 января 2023 года.
Фотолитография - метод получения определенного рисунка на поверхности материала, используемый в микроэлектронике и других видах микротехнологий, а также в производстве печатных плат. Один из основных приемов планарной технологии, используемой в производстве полупроводниковых приборов.
Как рассказал Александр Сергеев, в России есть все необходимые для компоненты, которые необходимы для создания литографа на основе лазерно-плазменного взаимодействия.
Во-первых, мощный лазер. В Росатоме есть мультикиловаттные лазеры, которые используются в различных приложениях. Во-вторых, технология изготовления рентгеновских зеркал, например в институте физики микроструктур РАН, у нас одна из лучших в мире. Мы также можем использовать разработки Росатома для моделирования всей этой системы на основе цифрового двойника, - перечислил ученый. |
Сергеев также напомнил, что первая в мире разработка рентгеновского литографа была осуществлена силами нескольких национальных лабораторий министерства энергетики США, аналога Росатома. И российские институты в этой программе тоже участвовали. России сегодня нужна аналогичная кооперация сильных институтов, считает ученый[1].